💙 Gate廣場 #Gate品牌蓝创作挑战# 💙
用Gate品牌藍,描繪你的無限可能!
📅 活動時間
2025年8月11日 — 8月20日
🎯 活動玩法
1. 在 Gate廣場 發布原創內容(圖片 / 視頻 / 手繪 / 數字創作等),需包含 Gate品牌藍 或 Gate Logo 元素。
2. 帖子標題或正文必須包含標籤: #Gate品牌蓝创作挑战# 。
3. 內容中需附上一句對Gate的祝福或寄語(例如:“祝Gate交易所越辦越好,藍色永恆!”)。
4. 內容需爲原創且符合社區規範,禁止抄襲或搬運。
🎁 獎勵設置
一等獎(1名):Gate × Redbull 聯名賽車拼裝套裝
二等獎(3名):Gate品牌衛衣
三等獎(5名):Gate品牌足球
備注:若無法郵寄,將統一替換爲合約體驗券:一等獎 $200、二等獎 $100、三等獎 $50。
🏆 評選規則
官方將綜合以下維度評分:
創意表現(40%):主題契合度、創意獨特性
內容質量(30%):畫面精美度、敘述完整性
社區互動度(30%):點讚、評論及轉發等數據
以太坊未來五大技術突破:zkEVM、RISC-V、跨層協同、質押優化和分片回歸
以太坊未來技術發展方向及其潛在影響
以太坊在未來兩年的技術路線圖中規劃了幾項重要的"技術突破",這些突破可能會對以太坊的性能、應用場景和市場地位產生重大影響。以下是幾個關鍵方向:
1. zkEVM 集成到主鏈
預計在2025年第四季度至2026年第二季度完成主網部署。主要技術目標包括:
這一技術突破的意義在於:
2. RISC-V執行架構引入
研發計劃從2025年下半年開始,預計在2026-2030年間分階段推進。主要技術目標包括:
這一技術突破的意義在於:
3. 主鏈與二層網路生態協同
計劃從2025年第四季度開始,在2026-2027年間持續優化。主要技術目標包括:
這一技術突破的意義在於:
4. 驗證者經濟模型優化
計劃從2025年下半年開始,配合各項技術升級同步優化,預計持續兩年完善。主要技術目標包括:
這一技術突破的意義在於:
5. 分片技術回歸(ETH 3.0)
計劃從2026年開始設計研發,可能在2027-2028年或更遠期實現。主要技術目標包括:
這一技術突破的意義在於:
這些技術突破如果能夠順利實現,將可能顯著增強以太坊的性能、可擴展性和經濟模型,爲其長期發展提供強有力的支撐。